Poster De Conférence Année : 2024

Le dépôt par couche atomique (ALD) comme technique de protection des interfaces dans les batteries à électrolyte solide

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Année Mois Jours
Avant la publication
mercredi 4 février 2026
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mercredi 4 février 2026
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Dates et versions

hal-04929537 , version 1 (04-02-2025)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04929537 , version 1

Citer

Benjamin Dumoulin, Maxime Legallais, Gunay Yildirim, Cyril Aymonier, Frédéric Le Cras, et al.. Le dépôt par couche atomique (ALD) comme technique de protection des interfaces dans les batteries à électrolyte solide. Journées CEA Tech en Région, Oct 2024, Nantes, France. ⟨hal-04929537⟩
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